Merits And Demerits Of Plasma Sputtering Source

 

 Merits And Demerits Of Plasma Sputtering Source

 

Magnetron sputtering sources are very familiar plasma sources for functional thin film preparation such as metal, oxide, nitride, and nano-materials thin film.

The merits of plasma sputtering sources are

 

1. high-speed deposition rate,
2. High-quality thin film property.

 

 The major demerits of plasma sputtering sources are

 

1. non-uniform target erosion profile,
2. Lower target utilization rate such as 30-40% due to a localized ring-shaped high-density plasma.

 

প্লাজমা স্পটারিং উৎসগুলির সুবিধা এবং অসুবিধা কী কী?

 

কার্যকরী থিন ফিল্ম প্রস্তুতির জন্য ম্যাগনেট্রন স্পটারিং উৎসগুলি খুব পরিচিত প্লাজমা উৎস । যেমন ধাতব, অক্সাইড, নাইট্রাইড এবং ন্যানো-ম্যাটেরিয়ালস থিন ফিল্ম।

 

প্লাজমা স্পটারিং উৎসগুলির সুবিধাসমূহ

 

• উচ্চ-গতি জমার হার,
• উচ্চ মানের থিন ফিল্ম প্রপার্টি ।

 

প্লাজমা স্পটারিং উৎসগুলির অসুবিধাসমূহ

 

• নন -ইউনিফর্ম লক্ষ্য ক্ষয়ের প্রোফাইল,
• লোকালাইজড রিং-আকারের উচ্চ ঘনত্বের প্লাজমার কারণে টার্গেট ব্যবহারের হার কম, যেমন 30-40%